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　　尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進(jìn)式光刻機(jī)“NSR-2205iL1”，預(yù)計(jì) 2024 年夏季上市。

　　據(jù)稱，這種光刻機(jī)具有縮小投影放大系統(tǒng)，支持功率半導(dǎo)體、通信半導(dǎo)體和 MEMS 等多種產(chǎn)品，并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設(shè)備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進(jìn)技術(shù)在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應(yīng)客戶對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。

　　尼康表示，與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比，NSR-2205iL1 具有出色的經(jīng)濟(jì)性，無論晶圓材料如何，都可以優(yōu)化各種半導(dǎo)體器件的生產(chǎn)。

　　注：這是尼康 25 年來（從 1999 年“NSR-2205i14E2”開始接單時(shí)計(jì)算）首次推出投影倍率降低 5 倍的新型 i-line 曝光系統(tǒng)。