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1、曝光量=照度×?xí)r間

2、照度由光圈決定，而時間由快門控制。光圈大小與快門長短決定了曝光量的多少。因此，曝光量由光圈和快門共同控制。

3、在理想情況下，曝光劑量是一個固定參數(shù)，整個硅片都受到均勻一致的光輻照。但在實際生產(chǎn)中，曝光機光源的能量可能會受到外界因素的影響而變化。

4、劑量均勻的紫外光對光刻膠的曝光是非常關(guān)鍵的，光學(xué)光刻中的曝光控制是通過使用劑量監(jiān)控器在硅片表面測量紫外光強所獲得的。曝光劑量在曝光場的不同位置測量并進行劑量百分比均勻性的計算 。